半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法
的项目视频背景
该高新产业基地聚众了十余家半导体器件一些商家,制定日治疗技能5000吨,需用治疗位于的不同商家的混后工业污水。原因各商家生产的流程差异化大,工业污水化学物质更复杂多样,治疗强度较高。
生活污水因素及源头
废气处理工艺核心其中其中包括三个类:高质量有机废气浓度可挥发的废气处理工艺(光刻胶、定影液等)、含氟废气处理工艺(刻蚀加工过程)和酸碱性废气处理工艺(洁净加工过程)。特出组成成分其中其中包括异丙醇、四甲基氢脱色铵等难生物降解可挥发的物,、氟化物、高锰酸盐指数等硅化物污染问题物。废气处理工艺COD下降大(500-3000mg/L),氟化物质量有机废气浓度100-500mg/L,高锰酸盐指数50-150mg/L。
外理制作流程图流程图
选择"分级提取+分质净化治理+聚焦深入净化治理"的改革创新机制:
工业企业实物划分预清理:含氟污水独立整理并预清理
该项目管网的分为输送机系统
综上调池义均水环境
两极沥青混凝土沉垫洗去透明桌面物和悬浊液
高效率动物不起作用器(HBR)进行处理有机会破坏物
活性氧催化反应硫化降解塑料难分离有机肥料物
反渗透膜法设备进行脱盐治理
UV直射线清洁消毒为了保证留水安全管理
很大布置了线上监测网设计和手动投药设计,积极应对水硬度变化。
不可能特效
体系工作五年期来,治疗功效稳定性高稳定。留水COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,高锰酸盐指数<5mg/L,总氮<15mg/L,实现地面水Ⅳ类标准单位,要素工业废水处理于科技物流园区净化及制冷塔保湿补水,工业废水处理率少于30%。第二年降低鲜活水采用约20万吨,为科技物流园区中小型企业控制成本煤气费百余亿元。